小型濺射儀是種常見(jiàn)的表面處理設(shè)備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質(zhì)。主要由濺射靶、工作室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。其中關(guān)鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質(zhì)的物質(zhì)組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個(gè)真空環(huán)境，用于避免氧氣、水蒸氣等對(duì)濺射過(guò)程的干擾。
在工作時(shí)，首先需要將工作室抽成高真空狀態(tài)。通過(guò)真空泵抽取工作室內(nèi)的氣體，減少對(duì)離子束的干擾。接下來(lái)，將濺射靶放置在工作室內(nèi)，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對(duì)方向。然后，靶與工作室中的氣體形成離子束和中性粒子束，向基板發(fā)射。
離子束通過(guò)靶材料的轟擊，使其表面原子或分子從靶材料上解離，形成離子。這些離子沿著濺射的方向飛向基板，與其表面發(fā)生碰撞。碰撞后，離子的能量和動(dòng)量轉(zhuǎn)移給基板表面的原子或分子，使其進(jìn)入較高的能級(jí)。通過(guò)這種能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移，濺射靶材料的物質(zhì)被轉(zhuǎn)移到基板表面，形成覆蓋層。
這個(gè)過(guò)程有一定的選擇性，即只有一部分靶材料的原子或分子能夠從靶材料上解離并達(dá)到基板表面。這是因?yàn)椋挥性诎胁牧现芯哂凶銐虻谋砻婺芰康脑踊蚍肿硬拍軓谋砻娼怆x，并且在離子束的轟擊下具有足夠的能量到達(dá)基板表面。
通過(guò)控制離子束的能量和強(qiáng)度以及濺射時(shí)間，可以調(diào)節(jié)覆蓋層的厚度和成分。此外，也可以通過(guò)改變靶材料的種類(lèi)，實(shí)現(xiàn)不同性質(zhì)的覆蓋層的制備。
小型濺射儀的維護(hù)保養(yǎng)方法：
1.定期清洗濺射室內(nèi)的沉積物和雜質(zhì)，以保持室內(nèi)的清潔。
2.定期檢查濺射靶和固定樣品的裝置，確保其正常工作和穩(wěn)定性。
3.定期檢查和更換濺射材料，以保證濺射質(zhì)量和效果。
4.定期檢查和維護(hù)真空泵和氣體供應(yīng)系統(tǒng)，確保其正常運(yùn)行。
5.定期校準(zhǔn)和調(diào)試濺射儀的工藝參數(shù)，以確保其性能穩(wěn)定。
6.注意避免濺射室與外部環(huán)境的下雨和潮濕，以避免影響儀器的正常使用和壽命。
7.對(duì)于長(zhǎng)時(shí)間不使用的濺射儀，應(yīng)將其放置在干燥通風(fēng)的環(huán)境中，并注意防塵、防潮。
更新時(shí)間：2023-10-09
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